年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996 %)

三氟化氮（Dusík trifluorid），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半忼体老湽显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀咒⼦蚀刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻⽓体刻清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放瞬间放出嶶坶嶭应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推追゛和推追゛和推迿

Fluorid dusnatý, chemický vzorec NF3, je silné oxidační činidlo. Jako důležitý průmyslový speciální plyn má širokou škálu aplikací.
V mikroelektronickém průmyslu je fluorid dusitý vynikajícím plynem pro plazmové leptání; V polovodičových čipech, plochých displejích, optických vláknech, fotovoltaických článcích a dalších výrobních oborech se fluorid dusitý používá hlavně jako plazmový leptací plyn a prostředek pro čištění reakčních dutin.
Může být také použit ve vysokoenergetických chemických laserech, aby bylo dosaženo jeho aplikace reakcí s vodíkem za vzniku velkého množství tepla v okamžiku. Fluorid dusíku se také používá jako vysokoenergetické palivo a jako okysličovadlo a pohonná látka při startech raket.